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退火爐

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退火爐

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退火爐


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  退火爐是用于小型熔煉爐制造半導體器件的工藝,包括加熱幾個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是為不同的效果而設計的??梢约訜峋约せ顡诫s劑,將薄膜轉換成薄膜或薄膜,形成晶片襯底界面,從而可以改變致密沉積的薄膜,改變生長薄膜的狀態,可以修復注入損傷,摻雜劑可以被移動或摻雜劑可以從一個膜轉移到另一個膜或從薄膜轉移到晶片襯底上。高頻熔錫爐和退火爐可以集成到其他爐處理步驟,如氧化,或可以自己處理。退火爐是為半導體晶片加熱而設計的。退火爐是一種節能的周期性操作爐,具有超強的節能結構和纖維結構,節約了60%的電能。


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